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Beneq C3R

超快速高精度空间ALD镀膜

  • 产品信息
  • 技术规格

Beneq C3R™ 是我们高精度空间ALD镀膜设备的新成员。

倍耐克C3R将等离子体增强原子层沉积(PE原子层沉积)工艺提升到一个全新的水平 - 首次将PE原子层沉积应用于大批量生产。由于采用了旋转等离子体增强型原子层沉积工艺,倍耐克C3R成为理想的原子层沉积厚膜设备,其薄膜厚度甚至达到微米级别。

倍耐克C3R为工业应用中高性能原子层沉积晶圆提供了最佳解决方案,如光学镀膜、绝缘体和阻隔层。

在考虑选择具有速度、低成本、低工艺温度及最高薄膜质量的产品时,倍耐克C3R是理想之选。

 

技术亮点

· 适用于微机电系统、LED、OLED、光伏、大功率半导体、传感器等的阻隔、绝缘和防腐应用

· 适用于高达200毫米的晶圆和其他圆形或矩形基底

· 可配备标准晶圆自动化技术

如需更多产品信息和技术支持,请联系我们的销售团队。

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