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由倍耐克打造的通用自动化ALD平台Transform{TM}正式亮相,成为超摩尔设备制造的有效解决方案

热法和等离子ALD、单片晶圆或批量工艺与独特的预热模块有效组合,最大限度地提高了批量生产的可选择性。

 

此款产品采用全新的集群设计,即在一个全自动平台上将热法和等离子ALD与单晶圆和批量工艺相结合,从而为客户提供无与伦比的灵活性。倍耐克TransformTM完全符合SEMI质量标准,是电力电子、微机电系统和传感器、射频、液晶显示屏、光子学和先进封装应用的一站式ALD解决方案。

“在当今客户提出的数百个应用请求中,我们最为兴奋的是用于射频和功率管理的GaN器件以及III-V型和硅光电子器件,”倍耐克的半导体业务主管Patrick Rabinzohn博士表示:“尤其是对于表面钝化、栅极电介质、成核层和封装层而言,倍耐克TransformTM是理想的解决方案。”


真正意义上的多功能性

超摩尔(MtM)应用正在以惊人的速度发展。为了在市场上更具竞争力,制造商们纷纷采用先进的薄膜技术。通常,他们需要将表面处理、界面层和功能层沉积序列进行组合–而所有这些工艺都需要纳入到一个工具中。

目前可用的ALD生产系统仅提供一种类型的ALD工艺—热增强或等离子增强。因此,对一种能支持多种沉积能力的多功能工具的需求就应运而生。


在单片晶圆或批量生产中,倍耐克TransformTM能够实现热法和等离子ALD处理的有效结合,而这种模式也易于配置。该产品能够进行表面预处理,并可以涂覆3至8英寸晶圆尺寸的基板材料。从研发、原型设计到批量生产,该产品在整个过程中能够发挥行之有效的作用。通过TransformTM,客户现在可以选择在多个设备和应用程序上运行多个不同的ALD流程,而所有这一切都是在一个平台上完成!

最完整的配置包含两个ALD工艺模块,预热站,表面等离子体处理和晶片冷却。


专为Fab设计

与那些具有垂直翻转功能的ALD生产平台不同,TransformTM将晶圆装载在水平位置上,并与生产线的其余部分无缝集成。实践证明,这种加载机制还可以充分处理问题,并最大限度地减少与非标准盒式批量装载系统相关的颗粒产生。


倍耐克TransformTM配有专有的预热模块,可减少数小时的等待时间,并将生产量提升到一个全新的水平(在热模式下,15 wph @50 nm Al2O3)。该产品还新增多达2个热处理模块或等离子体,从而进一步提高生产量。

倍耐克TransformTM会产生各种氧化物,包括Al2O3、HfO2、Ta2O5、TiO2和SiO2、以及氮化物,如AlN和TiN。TransformTM与其他工具的区别在于它能够扩大生产量并保持相同的均匀性,不受温度影响,例如:>400'c。


经过SEMI认证

倍耐克TransformTM实施SECS / GEM标准,从而缩短了周期时间并加快了制造的适应性。它还完全符合SEMI S2/S8中关于环保、人体工程学和安全操作的要求。

欲了解更多信息,请访问www.beneq.com/transform



关于倍耐克  


芬兰倍耐克工厂是ALD的家。这是第一个在工业生产中应用原子层沉积的地方。今天,倍耐克是全球领先的ALD生产商,提供品类广泛的设备产品和开发服务。 

倍耐克凭借先进的ALD科研设备(TFS 200, R2)、能灵活地实现大批量生产的ALD平台(ALD 3, ALD 4)、超快速的高精度空间ALD涂层(C2R)、用于卷对卷薄膜的创新解决方案(WCS 600),以及较厚的薄膜叠层(P400, P800)等技术引领业界。

倍耐克总部位于芬兰Espoo,致力于为更多科研人员提供高品质且具有价格竞争力的ALD技术,并为客户在新兴的半导体应用领域带来潜在优势。




市场联系

吴捷

iris.wu@beneq.com