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Beneq推出新产品R2,专为ALD科研和应用开发而定制的紧凑型模块化平台

R2拥有模块化设计和高性价比,前所未有地降低了ALD的研发成本 


Beneq在美国华盛顿州贝尔维尤市举行的ALD2019大会上推出了全新的R2紧凑型模块化平台,明显降低了大学、科研机构及企业启动高端ALD研究项目的门槛。

新的R2平台引入人体工程学理念,采用全新的设计,完全符合热沉积ALD研究的要求。平台配置灵活的插件选项,使客户能轻松地扩展平台功能,

开展类似等离子体,批量工艺,粉末ALD和扩散增强ALD等高阶研究。 



对于踏入ALD研究这一快速发展领域的科研工作者而言,在设备上投资往往面临巨大的不确定因素。大学的研究者往往需要在功能极其有限的入门级系统或

系统成熟价格却异常昂贵的产品设备中作出选择。

 

R2系统针对热沉积ALD的全部特性度身定制,拥有紧凑的结构和极具竞争力的价格优势。系统内设备符合所有业界标准,为您的ALD研究、工艺设计或

应用开发赋予出众的价值。R2拥有与TFS200系统完全相同的设计团队,后者的高级可集成ALD研究工具深受各大高校和科研机构的喜爱。

“R2系统传承了Beneq领先ALD业界25年的技术实力,”Beneq技术销售经理Patrick Gonzalez表示,“标准化R2系统的全部功能均可由外部配置实现。通

过R2,Beneq为各科研提供了薄膜封装,High k介电材料以及介于两者之间的所有应用的设备工具。” 



人体工程学设计

为打造一款结构简单、易于使用的系统,Beneq重新设计了R2的外观。为了尽量减少系统需要连接的管道,R2的液源结构极为紧凑,

且靠近真空腔。不同于传统设计,热源被重新放置在真空腔附近,高度设计合理,便于更换容器、操作设备。

Beneq为R2系统创建的位于真空腔上方的空气冷却通风系统目前正在申请专利。该设计可以降低过热风险,避免意外烫伤。


一键升级

Beneq R2系统采用革命性的模块设计,为客户提供全套用于真空腔、热源或工艺类型的扩展选项,如用于高纵横比结构的扩散增强ALD工艺等。

用户在输入新命令时可根据自身需要选择配置,或选择稍后更新工具。更多信息,请访问www.beneq.com/r2


关于倍耐克

 

芬兰倍耐克工厂是ALD的家。这是第一个在工业生产中应用原子层沉积的地方。今天,倍耐克是全球领先的ALD生产商,提供品类广泛的设备产品和开发服务。 

倍耐克凭借先进的ALD科研设备(TFS 200, R2)、能灵活地实现大批量生产的ALD平台(ALD 3, ALD 4)、超快速的高精度空间ALD涂层(C2R)、

用于卷对卷薄膜的创新解决方案(WCS 600),以及较厚的薄膜叠层(P400, P800)等技术引领业界。

倍耐克总部位于芬兰Espoo,致力于为更多科研人员提供高品质且具有价格竞争力的ALD技术,并为客户在新兴的半导体应用领域带来潜在优势。




市场联系

吴捷

iris.wu@beneq.com